Canon, l’azienda giapponese famosa a livello globale per le sue fotocamere e stampanti di alta qualità, ha presentato venerdì 13 ottobre un’innovazione rivoluzionaria che rivoluzionerà notevolmente la produzione di componenti semiconduttori avanzati.
Mossa audace per competere
Secondo un rapporto di CNBC, Canon ha compiuto una mossa audace con il suo recente sistema di “nanoimprint lithography” per competere con l’azienda olandese ASML, che è un giocatore dominante nel settore della litografia ultravioletta estrema (EUV). Il parco macchine di ASML è fondamentale per la produzione di chip avanzati, compresi quelli utilizzati negli ultimi iPhone di Apple.
L’uso di queste macchine è legato alla controversia tecnologica tra gli Stati Uniti e la Cina. Gli Stati Uniti hanno cercato di limitare l’accesso della Cina a chip essenziali e macchine di produzione attraverso restrizioni sulle esportazioni e varie sanzioni, ostacolando notevolmente il progresso della seconda economia più grande del mondo in un settore in cui è già indietro.
Enorme popolarità della tecnologia EUV di ASML
La tecnologia EUV di ASML ha guadagnato una enorme popolarità tra i principali produttori di chip grazie al ruolo cruciale che svolge nel consentire la produzione di semiconduttori su scale di 5 nanometri e inferiori. La scala dei nanometri si riferisce alle dimensioni delle caratteristiche del chip, con valori più bassi che consentono più caratteristiche su un chip, migliorando le prestazioni dei semiconduttori.
Secondo quanto riferito, Canon ha annunciato che il suo nuovo sistema, l’FPA-1200NZ2C, può produrre semiconduttori con un processo di produzione equivalente a 5 nanometri e persino riducibile a 2 nanometri, superando le capacità del chip A17 Pro che si trova nell’iPhone 15 Pro e Pro Max di Apple, quest’ultimo utilizzante un semiconduttore da 3 nanometri.
Divieto di esportazione di macchine ASML in Cina da parte del governo olandese
Il governo olandese ha precedentemente imposto restrizioni all’esportazione su ASML, il che ha portato alla cessazione dell’esportazione delle loro macchine di EUV lithography in Cina, dove finora nessuna di queste macchine è stata consegnata. Queste restrizioni sono state imposte a causa del ruolo cruciale di queste macchine nella produzione di chip semiconduttori avanzati.
Con l’annuncio di Canon secondo cui la loro nuova macchina è in grado di facilitare la produzione di semiconduttori su una scala di 2 nanometri, è probabile che questa questione diventi ancora più prominente. Al momento non è noto se Canon subirà una restrizione simile.
